12月7日，上海新陽半導體材料股份有限公司在互動平臺回答投資者提問時表示：KrF光刻膠已批量化生產銷售。此前9月份，上海新陽公司表示ArF光刻膠尚處于驗證階段。另外，上海新陽還表示，合肥新陽項目尚未投產，部分設備已進場。
上海新陽產能
上海新陽主營晶圓超純化學材料產品，也就是光刻膠。歷經二十余年發展，已經擁有完整自主可控知識產權的電子電鍍和電子清洗兩大核心技術，電子光刻及電子研磨核心技術正在形成。
公司聚焦于集成電路關鍵工藝材料業務，已建設上海廠區產能1.9萬噸/年，合肥第二生產基地一期1.7萬噸/年的產品產能，突破公司現有產能瓶頸，為公司進一步加大國產替代速度奠定基礎。
目前，上海新陽正在開發集成電路制造用高端光刻膠產品，包括邏輯和模擬芯片制造用的I線光刻膠、KrF光刻膠、ArF干法光刻膠，存儲芯片制造用的KrF厚膜光刻膠，底部抗反射膜（BARC）等配套材料。
市場需求最大的兩種光刻膠
如果說光刻膠是半導體行業的皇冠，那ArF光刻膠就是皇冠上的明珠。
受制于國內光刻膠技術壁壘高、產業集中度高，目前我國高端光刻膠的國產化率仍然保持較低水平。半導體光刻膠中的ArF和KrF光刻膠，國產化率僅1％。基本涵蓋了當前主流芯片領域，包括大部分數字芯片和幾乎所有的模擬芯片。
其中，ArF濕法光刻膠主要應用于先進制程中的多重曝光過程，需求比ArF干法更多。并且，隨著技術節點向前推進，ArF濕法光刻膠的用量增長很快。從整體上來說，ArF與KrF基本覆蓋主流芯片制程和應用需求，且在單芯片制作過程中用量相比更多，因而成為了光刻膠市場上需求最大的兩類。
國內光刻膠產業正處于國產化機遇期，國內光刻膠企業——晶瑞電材、彤程集團、南大光電、上海新陽等都在加快光刻膠項目的研發建設，力求早日量產突破“卡脖子”的困境，而跨界布局光刻膠的企業也日漸增多，哪些本土光刻膠企業將最終“脫穎而出”，仍需時間的考驗。
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